商品簡介
目次
1.1 氦的引入和含量
1.2 單個氦原子及原子因
1.2.1 能量參數、氦原子的捕陷和簇聚
1.2.2 氦原子的遷移
1.3 氦泡
1.3.1 形成過程
1.3.2 泡內的氦壓強及密度
1.3.3 研究氦泡的其他方法
1.3.4 加熱時氦泡的聚集長大
第二章 氦的熱釋放、宏觀效應及氦脆
2.1 金屬氚化物的氦釋放
2.2 離子注入固本中氦的熱釋放
2.3 氦與氫同位素的相互作用
2.4 表面效應
2.6 不銹鋼的氦脆
2.6.1 高溫氦脆
2.6.2 低曼氦脆
2.7 自輻照引起的氦問題
2.7.1 輻照損傷
2.7.2 盥的自輻照現象
2.7.3 氦泡及氦的熱釋放
2.7.4 盥的a輻照對不銹鋼的效應
第三章 氚的擴散與滲透
3.1 氚的特性及其產生與儲存
3.2 氚的吸收與釋放
3.3 氚的擴散
3.4 氚的滲透
第四章 防氚滲透阻擋層
4.1 氧化物層
4.2 鋁化物涂層
4.3 鈦基陶瓷涂層
4.4 硅化物涂層
4.5 阻擋層的滲透機制
4.6 阻擋層的其他特性
第五章 氫同位素及氦的離子束分析方法
5.1 盧瑟福背散射
5.2 增強質子背散射及前沖散射方法
5.3 核反應分析
5.4 二次離子質譜
附錄
參考文獻
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