滿額折
Gas-Phase and Surface Chemistry in Electronic Materials Processing：VOLUME334
商品資訊
相關商品
商品簡介
商品簡介
Proceedings of the title symposium, held during the 1993 Fall Meeting of the MRS in Boston. The invited and contributed papers address the current state of the art in vapor-phase thin film processing for microelectronics with emphasis on chemistry and its effects on film quality. The volume is divided into six sections: silicon and carbon systems; compound semiconductors; metallization; dielectrics and transitional layers; etching; and special topics deposition on patterned substrates, reactor design, heteroepitaxy, selective epitaxy. Annotation copyright Book News, Inc. Portland, Or.
您曾經瀏覽過的商品
購物須知
外文書商品之書封，為出版社提供之樣本。實際出貨商品，以出版社所提供之現有版本為主。部份書籍，因出版社供應狀況特殊，匯率將依實際狀況做調整。
無庫存之商品，在您完成訂單程序之後，將以空運的方式為你下單調貨。為了縮短等待的時間，建議您將外文書與其他商品分開下單，以獲得最快的取貨速度，平均調貨時間為1~2個月。
為了保護您的權益，「三民網路書店」提供會員七日商品鑑賞期(收到商品為起始日)。
若要辦理退貨，請在商品鑑賞期內寄回，且商品必須是全新狀態與完整包裝(商品、附件、發票、隨貨贈品等)否則恕不接受退貨。