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商品類型

簡體書 (1)
商品狀況

可訂購商品 (1)
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無庫存 (1)
商品定價

$200~$399 (1)
出版日期

2018~2019 (1)
裝訂方式

平裝 (1)
作者

杜文漢 (1)
出版社/品牌

江蘇大學出版社 (1)

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矽基高k氧化物鍶矽界面緩衝層的研究(簡體書)
滿額折
作者:杜文漢  出版社:江蘇大學出版社  出版日:2018/12/01 裝訂:平裝
Sr/Si界面在晶形高介電常數(k)氧化物-半導體體系的外延生長中具有重要的作用, 是形成外延高k氧化物必不可少的緩衝界面層。本書深入研究了不同Sr/Si再構表面的幾何及電子結構,並探討相關的物理機制。主要 分為以下3個部分:(1)第一部分:Si(100)襯底上的 Sr/Si再構;(2)第二部分:Si(111)襯底上的Sr/Si 再構;(3)第三部分:超薄SrTiO3膜的高溫晶化。
定價:210 元, 優惠價:87 183
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