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Low-Dielectric Constant Materials V：VOLUME565
商品資訊
系列名：MRS Proceedings
ISBN13：9781558994720
出版社：Cambridge University Press
作者：Edited by John Hummel ; Kazuhiko Endo ; Wei William Lee ; Michael Mills ; Shi-Qing Wang
出版日：2000/01/12
裝訂／頁數：平裝／306頁
版次：1
定價
：NT$ 2254 元優惠價
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商品簡介
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商品簡介
Divided into six parts, these conference proceedings include some 40 contributions, arranged in five parts: organic and inorganic porous films; organic/low-K integration of porous films; low-K integration; joint sessions on low-K/advanced interconnect; a poster session of papers addressing low-dielectric constant materials and applications in microelectronics; and low-K film property/integration issues. Several talks address synthetic methods of obtaining materials in this range, particularly by introducing porosity into the structure. Additionally, alternatives, including fluorinated materials, are discussed in several papers. Annotation c. Book News, Inc., Portland, OR (booknews.com)
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