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商品類型

簡體書 (1)
商品狀況

可訂購商品 (1)
庫存狀況

無庫存 (1)
商品定價

$600~$799 (1)
出版日期

2022~2023 (1)
裝訂方式

平裝 (1)
作者

(美)索斯藤‧萊爾 (1)
出版社/品牌

機械工業出版社 (1)

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半導體乾法刻蝕技術:原子層工藝(簡體書)
滿額折
作者:(美)索斯藤‧萊爾  出版社:機械工業出版社  出版日:2023/09/25 裝訂:平裝
本書主要內容有:熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等,探討了尚未從研究轉向半導體製造的新興刻蝕技術,涵蓋了定向和各向同性ALE的最新研究和進展。本書以特定的刻蝕應用作為所討論機制的示例,例如柵極刻蝕、接觸孔刻蝕或3D NAND通道孔刻蝕,有助於對所有幹法刻蝕技術的原子層次理解。
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定價:714 元, 優惠價:87 621

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