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商品定價

$800以上 (1)
出版日期

2016年以前 (1)
作者

Edited by Qinghuang Lin 、E. Todd Ryan 、Wen-li Wu 、Do Yeung Yoon (1)
出版社/品牌

CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS (1)

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Materials, Processes, Integration and Reliability in Advanced Interconnects for Micro- and Nanoelectronics:Symposium Held April 10–12, 2007, San Francisco, California, U.S.A.:VOLUME990
滿額折
作者:Edited by Qinghuang Lin ; E. Todd Ryan ; Wen-li Wu ; Do Yeung Yoon  出版社:CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS  出版日:2007/09/12 裝訂:平裝
Proceedings from an international symposium held in San Francisco, California, in April 2007. Fifty-one contributions are organized into sections on dielectric materials, metallization and atomic laye
定價:1665 元, 優惠價:9 1499
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