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2017年以前 （1）
作者
Edited by Gerfried Zwicker 、Christopher Borst 、Laertis Economikos 、Ara Philipossian （1）
出版社/品牌
CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS （1）

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共1筆，1/1頁
Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization：VOLUME991
90折
1.

Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization：VOLUME991

作者：Edited by Gerfried Zwicker ; Christopher Borst ; Laertis Economikos ; Ara Philipossian  出版社：CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS  出版日：2007/11/13 裝訂：平裝
Forty-one papers from the April 2007 symposium present recent research on the chemical mechanical planarization (CMP) process for polishing silicon wafers. Invited papers describe slurry particle char
無庫存，下單後進貨(到貨天數約30-45天)
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