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商品類型
簡體書 （1）
商品狀況
可訂購商品 （1）
庫存狀況
無庫存 （1）
商品定價
$600~$799 （1）
出版日期
2023~2024 （1）
裝訂方式
精裝 （1）
作者
李豔麗、伍強 （1）
出版社/品牌
清華大學出版社（大陸） （1）

三民網路書店 / 搜尋結果

共1筆商品，1/1頁
現代集成電路工廠中的先進光刻工藝研發方法與流程（簡體書）
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1.

現代集成電路工廠中的先進光刻工藝研發方法與流程（簡體書）

作者：李豔麗; 伍強  出版社：清華大學出版社(大陸)  出版日：2024/09/01 裝訂：精裝
本書基於作者團隊多年的光刻工藝（包括先進光刻工藝）研發經驗，從集成電路工廠的基本結構、半導體芯片製造中常用的控制系統、圖表等基本內容出發，依次介紹光刻基礎知識，一個6晶體管靜態隨機存儲器的電路結構與3個關鍵技術節點中SRAM 製造的基本工藝流程，光刻機的發展歷史、光刻工藝8步流程、光刻膠以及掩模版類型，光刻工藝標準化與光刻工藝仿真舉例，光刻技術的發展、應用以及先進光刻工藝的研發流程，光刻工藝試流片和流片的基本過程，光刻工藝試流片和流片中出現的常見問題和解決方法，光刻工藝中採用的關鍵技術舉例以及其他兩種與光刻相關的技術等內容。本書不僅介紹光刻工藝相關基礎知識，還介紹了一種符合工業標準的標準化研發方法，通過理論與仿真相結合，力求更加清楚地展示研發過程。本書可供光刻技術領域科研院所的研究人員、高等院校的學生、集成電路工程的技術人員等作為學習光刻技術的參考書。
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定價：768 元， 優惠價：87 668
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