固體薄膜材料與制備技術（簡體書）

本書較全面地介紹了有關薄膜材料制備技術的基礎知識，總結了近年來薄膜材料制備領域的新進展，并融入了作者多年來在從事薄膜材料研究中所取得的成果。全書共10章，第l章主要介紹了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介紹了薄膜材料的物性和結構的分析方法。第2章和第3章講述的是有關薄膜制備技術中涉及的基礎知識，包括真空技術和等離子體技術等。第4章和第5章是本書的重點，著重討論了制備薄膜材料的物理氣相沉積技術和化學氣相沉積技術的基本原理和方法，包括蒸發、濺射、離子束、脈沖激光和等離子體化學氣相沉積技術，以及分子束外延和液相法生長技術等。第6章討論了薄膜材料的厚度和沉積速率的檢測方法。第7～10章則有選擇地介紹了當前國際上研究的幾種熱點薄膜材料的制備和檢測技術，如超低和超高介電常數薄膜、發光薄膜、超硬薄膜、巨磁電阻薄膜等，其目的是使讀者進一步了解薄膜材料的廣泛應用及其發展方向。 本書可供從事薄膜材料研究的科研工作者參考，也可以作為物理學、材料科學與工程、電子科學與技術等專業高年級本科生或研究生的參考讀物。

前言
第1章 薄膜的特征
　1.1 薄膜的定義
　1.2 表面效應
　1.3 薄膜的結構和缺陷
第2章 真空技術基礎
　2.1 真空的基本概念
　2.2 氣體的動力學描述
　2.3 氣體的流動與抽氣
　2.4 真空的獲得
　2.5 真空的測量
第3章 等離子體技術基礎
　3.1 等離子體的基本概念
　3.2 等離子體的分類
　3.3 低溫等離子體的產生
第4章 薄膜的物理氣相沉積
　4.1 蒸發沉積
　4.2 濺射沉積
　4.3 離子束沉積
　4.4 脈沖激光沉積
第5章 化學氣相沉積
　5.1 熱化學氣相沉積
　5.2 等離子體化學氣相沉積
　5.3 高密度等離子體化學氣相沉積
　5.4 其他化學氣相沉積
第6章 膜厚和沉積速率的測量
　6.1 光學法
　6.2 天平法
　6.3 電學方法
　6.4 表面粗糙度儀法
第7章 低介電常數薄膜材料
　7.1 低介電常數材料的研究背景
　7.2 碳基低介電常數薄膜
　7.3 硅基低介電常數薄膜
　7.4 SiCOH多孔（超）低介電常數材料的制備與性能
第8章 氧化鋅薄膜材料
　8.1 氧化鋅薄膜的特性和用途
　8.2 氧化鋅薄膜的制備和光致發光譜
第9章 鈦酸鍶鋇鐵電多層薄膜
　9.1 鐵電多層薄膜的研究意義
　9.2 BaTiO3/Ba0.6Sr0.4 TiO3多層薄膜的介電增強效應
　9.3 界面對BaTiO3/SrTio3多層膜的介電學性質的影響
　9.4 多層膜的鐵電性能
第10章 硅基顆粒復合發光薄膜
　10.1 硅基發光材料研究的意義及歷史
　10.2 硅基顆粒復合發光薄膜的制備
　10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致發光和電致發光特性
參考文獻