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英國劍橋大學出版社出版的《Silicon Micromachining》是一本關于微系統加工工藝方面的專著，作者MElwenspoek和HJansen等人從事過多年微系統加工工藝方面的研究工作，具有非常豐富的研究經驗。本書的主要內容包括：（1）硅的濕法腐蝕工藝及其物理機制的描述；（2）硅的表面微機械加工技術；（3）LIGA工藝；（4）硅硅直接鍵合工藝；（5）硅的干法腐蝕工藝及物理機制等，涵蓋了微機械系統加工工藝中的主要內容，而且其內容經過多次修訂，并在法國和英國等大學試用。本書基本概念清楚，具有一定參考價值，適合MEMS領域工程技術人員、研究生和高年級本科生閱讀和使用。
目次
1 簡介
參考文獻
2 各向異性濕法腐蝕
2.1 簡介
2.2 單晶硅的機械特性
2.3 硅的晶體特性
2.4 腐蝕過程
2.5 實驗方法
2.6 各向異性腐蝕劑的特性
2.7 〈100〉和〈110〉晶向硅片的微機械加工
2.8 腐蝕自停止機理
2.9 掩模材料
2.10 邊角補償
2.11 其他
參考文獻
3 濕法化學腐蝕的化學物理機制
3.1 簡介
3.2 晶體知識回顧：表面的原子結構
3.3 表面自由能和階梯自由能
3.4 熱動力學
3.5 動力學
3.6 腐蝕速率圖
3.7 階梯狀的直接顯示
3.8 總結
參考文獻
4 硅片鍵合
4.1 簡介
4.2 硅熔融鍵合（SFB）
4.3 陽極鍵合
4.4 低溫鍵合
參考文獻
5 實例和應用
5.1 簡介
5.2 薄膜
5.3 梁
參考文獻
6 表面微機械加工
6.1 簡介
6.2 表面微機械處理中的基本制造工藝
6.3 應用
參考文獻
7 硅的各向同性濕法化學腐蝕
7.1 腐蝕液和腐蝕速率圖
7.2 擴散和攪拌
7.3 掩模材料
7.4 陽極HF腐蝕
參考文獻
8 微機械加工技術中干法等離子刻蝕技術簡介
8.1 微機械加工技術
8.2 等離子體
8.3 刻蝕
8.4 概況
參考文獻
9 為何采用等離子體刻蝕
9.1 氣體刻蝕
9.2 濕法刻蝕
9.3 干法刻蝕
參考文獻
10 什么是等離子刻蝕
11 等離子體系統配置
12 接觸式等離子體刻蝕
13 遠程等離子體刻蝕
14 高深寬比溝槽刻蝕
15 微型結構的鑄模
16 可動的微結構的制造
關鍵詞英漢對照
參考文獻
2 各向異性濕法腐蝕
2.1 簡介
2.2 單晶硅的機械特性
2.3 硅的晶體特性
2.4 腐蝕過程
2.5 實驗方法
2.6 各向異性腐蝕劑的特性
2.7 〈100〉和〈110〉晶向硅片的微機械加工
2.8 腐蝕自停止機理
2.9 掩模材料
2.10 邊角補償
2.11 其他
參考文獻
3 濕法化學腐蝕的化學物理機制
3.1 簡介
3.2 晶體知識回顧：表面的原子結構
3.3 表面自由能和階梯自由能
3.4 熱動力學
3.5 動力學
3.6 腐蝕速率圖
3.7 階梯狀的直接顯示
3.8 總結
參考文獻
4 硅片鍵合
4.1 簡介
4.2 硅熔融鍵合（SFB）
4.3 陽極鍵合
4.4 低溫鍵合
參考文獻
5 實例和應用
5.1 簡介
5.2 薄膜
5.3 梁
參考文獻
6 表面微機械加工
6.1 簡介
6.2 表面微機械處理中的基本制造工藝
6.3 應用
參考文獻
7 硅的各向同性濕法化學腐蝕
7.1 腐蝕液和腐蝕速率圖
7.2 擴散和攪拌
7.3 掩模材料
7.4 陽極HF腐蝕
參考文獻
8 微機械加工技術中干法等離子刻蝕技術簡介
8.1 微機械加工技術
8.2 等離子體
8.3 刻蝕
8.4 概況
參考文獻
9 為何采用等離子體刻蝕
9.1 氣體刻蝕
9.2 濕法刻蝕
9.3 干法刻蝕
參考文獻
10 什么是等離子刻蝕
11 等離子體系統配置
12 接觸式等離子體刻蝕
13 遠程等離子體刻蝕
14 高深寬比溝槽刻蝕
15 微型結構的鑄模
16 可動的微結構的制造
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