薄膜制備技術基礎(原著第4版)（簡體書）

本書較為系統、全面地介紹了與薄膜制備技術相關的各種基礎知識，涉及了薄膜制備系統、典型的物理制膜與化學制膜方法、薄膜加工方法，以及常用的薄膜性能表征技術，同時緊密結合當前薄膜領域最先進的技術、方法和裝置。
原外版書作者長期在薄膜科學與技術領域從事研究、開發和教育工作，有豐富的工作經驗與廣博的專業知識。本書自初版以來，已有三十余年，迄今已4次再版，反映了本書在這一領域具有較為深遠的影響。
本書的內容豐富，由淺入深，對于材料科學、微電子專業學生而言是一本良好的基礎教材；對于在這一領域學習、工作的人員而言，具有很好的參考價值。

第1章　薄膜技術
　1.1　生物計算(biocomputing)和薄膜技術
　1.2　醫用微型機械
　1.3　人工腦的實現（μElectronics）
　1.4　大型顯示的實現
　1.5　原子操控
　1.6　薄膜技術概略
　參考文獻
第2章　真空的基礎
　2.1　真空的定義
　2.2　真空的單位
　2.3　氣體的性質
2.3.1　平均速率 Va
2.3.2　分子直徑 δ
2.3.3　平均自由程 L
2.3.4　碰撞頻率 Z
　2.4　氣體的流動和流導
2.4.1　孔的流導
2.4.2　長管的流導 （L/a≥100）
2.4.3　短管的流導
2.4.4　流導的合成
　2.5　蒸發速率
　參考文獻
第3章　真空泵和真空測量
　3.1　真空泵
3.1.1　油封式旋片機械泵
3.1.2　油擴散泵
3.1.3　吸附泵
3.1.4　濺射離子泵
3.1.5　升華泵
3.1.6　冷凝泵
3.1.7　渦輪泵（分子泵）和復合渦輪泵
3.1.8　干式機械泵
　3.2　真空測量儀器——全壓計
3.2.1　熱導型真空計
3.2.2　電離真空計——電離規
3.2.3　磁控管真空計
3.2.4　蓋斯勒（Geissler）規管
3.2.5　隔膜真空計
3.2.6　石英晶振真空計
3.2.7　組合式真空規
3.2.8　真空計的安裝方法
　3.3　真空測量儀器——分壓計
3.3.1　磁偏轉型質譜儀
3.3.2　四極質譜儀
3.3.3　有機物質質量分析IAMS法
　參考文獻
第4章　真空系統
　4.1　抽氣的原理
　4.2　材料的放氣
　4.3　抽氣時間的推算
　4.4　用于制備薄膜的真空系統
4.4.1　殘留氣體
4.4.2　用于制備薄膜的真空系統
　4.5　真空檢漏
4.5.1　檢漏方法
4.5.2　檢漏應用實例
　參考文獻
第5章　薄膜基礎
第6章　薄膜的制備方法
第7章　基板
第8章　蒸鍍法
第9章　濺射
第10章 氣相沉積CVD和熱氧化氮化
第11章　刻蝕
第12章　精密電鍍
第13章　平坦化技術
參考文獻