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《現代光電子成像技術概論》是工業和信息化部國防科技工業教育“十一五”規劃國防特色專著之一。內容涉及X射線及短波輻射成像、紫外線成像、可見光成像、微光成像、紅外成像、微波成像、遙感成像、高速攝影攝像、光子計數成像和醫療成像等現代光電子成像器件和系統技術,分別詳細介紹它們的系統組成、工作原理、特性參數、測試評價及其最新發展動態等。學習掌握這一高新技術,對研究、開發、應用各類觀察、瞄準、測距、跟蹤、制導、告警,測繪以及航天遙感、高速攝影、弱光探測、醫療診斷和生物研究儀器,具有重要實用意義,對從事相關領域科研、教學、生產和應用的讀者,有一定參考和借鑒作用。
目次
第一章 緒論
1.1 光電子成像技術的意義和作用
1.1.1 神奇的人眼視覺及其局限性
1.1.2 光電子成像系統的物理功能及技術特點
1.1.3 光電子成像系統構成、工作原理及工作模式
1.1.4 光電子成像器件和顯示器件一般原理
1.2 光電子成像技術基本科學問題探討
1.2.1 “成像”一詞的來源
1.2.2 現代光電子成像技術的數理含義
1.2.3 現代光電子成像技術基本科學問題詮釋
1.3 本書的編著思路和技術特點
第二章 輻射源、目標及大氣特性
2.1 引言
2.2 輻射源電磁波譜
2.3 輻射源特性及其度量
2.3.1 輻射源特性
2.3.2 輻射度量
2.4 輻射源分類
2.5 絕對黑體及其基本定律
2.5.1 絕對黑體與灰體
2.5.2 黑體輻射基本定律
2.6 常見的輻射源
2.7 激光器原理及其應用
2.7.1 激光器x_-f乍原理
2.7.2 激光器技術特點
2.7.3 激光器在光電子成像技術中的應用
2.8 輻射能在大氣中的傳播
2.8.1 輻射能在大氣中傳播的一般規律
2.8.2 水平能見度和消光指數
2.9 典型目標的輻射和反射特性
2.9.1 典型目標的輻射特性
2.9.2 典型目標的反射特性
2.9.3 水下光學吸收(透射)特性
第三章 固體光電子成像器件
3.1 引言
3.2 固體光電子成像器件分類及性能
3.2.1 固體光電子成像器件分類
3.2.2 固體光電子成像器件性能參數
3.3 紅外探測成像器件
3.3.1 概述
3.3.2 紅外成像器件原理結構
3.4 CCD、CMOS成像器件系列
3.4.1 概述
3.4.2 (2CI)典型結構和工作原理
3.4.3 (2M()S成像器件典型結構和工作原理
3.4.4 EMCD典型結構和工作原理
3.4.5 1CCD典型結構和工作原理
3.4.6 EBCD典型結構和工作原理
3.5 短波輻射固體成像器件
3.5.1 概述
3.5.2 固體紫外(日盲)探測成像器件
3.5.3 固體X線探測成像器件
3.5.4 固體7線探測成像器件
3.5.5 EB——MAMA多陽極陣列探測成像器件
第四章 真空光電子成像器件
4.1 引言
4.2 真空光電子成像器件技術發展動態
4.3 真空光電子成像功能部件物理基礎
4.3.1 半導體外光電效應和光陰極
4.3.2 光電倍增管和微通道板電子倍增原理
4.3.3 光纖光學成像元件
4.3.4 電致發光顯示器件——熒光屏
4.3.5 電子光學透鏡成像原理
4.4 真空光電子成像器件原理、功能和結構
4.4.1 真空光電子成像器件工作原理
4.4.2 真空光電子成像器件四大功能
4.4.3 真空光電子成像器件典型結構
4.5 真空光電子成像器件特性參數
4.5.1 真空光電子成像器件特性參數分類
4.5.2 真空光電子成像器件特性參數
4.6 雙近貼聚焦像像增強器(wII)極限性能估算
4.6.1 WII極限靈敏度估算
4.6.2 WII極限分辨率估算
4.6.3 WII極限信噪比估算
第五章 圖像顯示技術
5.1 引言
5.1.1 圖像顯示系統組成及功能
5.1.2 顯示器技術發展動態
5.2 圖像顯示器特性參數和性能評價
5.2.1 圖像顯示器特性參數
5.2.2 圖像顯示器性能評價
5.3 液晶顯示技術
5.3.1 液晶顯示器基本工作原理
5.3.2 微型液晶顯示技術
5.3.3 LCoS工作原理
5.3.4 LCOS的優點
5.4 液晶光閥投影顯示技術
5.4.1 液晶光閥
5.4.2 光尋址方式液晶光閥用途
5.4.3 大屏幕投影顯示應用系統
5.5 立體顯示技術
5.5.1 高現場感顯示與空間成像型顯示器
5.5.2 空間成像型顯示方式的分類與問題
5.6 數字式微反射鏡顯示(DMD)技術
5.6.1 數字式微反射鏡器件
5.6.2 DMD光開關原理
5.6.3 DMD數字化光處理器(DLP)
5.6.4 數字化光處理的技術特徵
5.6.5 數字化光處理系統
5.7 陰極射線管(CRT)顯示技術
5.7.1 CRT顯示原理
5.7.2 CRT的典型結構與工作原理
5.8 等離子體顯示(PDP)技術
5.8.1 彩色PDP結構及工作原理
5.8.2 PDP顯示器的應用和前景
5.9 有機發光薄膜二極管顯示(OLED)技術
5.9.1 OLED結構及工作原理
5.9.2 有機發光二極管(OLED)優點
5.9.3 OLED應用及發展動態
5.1 0大屏幕顯示技術
5.1 0.1 球幕多光譜顯示技術
5.1 0.2 LED大屏幕顯示技術
第六章 光學成像系統和光學傳遞函數
6.1 引言
6.2 幾何光學概述
6.2.1 幾何光學的有效性及其基本定律
6.2.2 光學系統成像的幾何光學理論
6.2.3 理想光學系統及其物像關係
6.2.4 平面鏡棱鏡系統的成像特點及其應用
6.3 幾何像差理論簡介
6.4 光學薄膜技術簡介
6.4.1 功能特點及應用背景
6.4.2 光學系統用的特種薄膜
6.5 幾種典型光學系統
6.5.1 微光夜視光學系統
6.5.2 紅外光學系統
6.6 光學傳遞函數OTF
6.6.1 概述
6.6.2 光學傳遞函數原理
6.6.3 光學傳遞函數的物理意義
6.6.4 光學傳遞函數的計算
6.7 光學成像技術的最新發展
6.7.1 二元光學元件工作原理和製作方法
6.7.2 熱像儀折衍射混合物鏡光學系統
6.7.3 環境溫度補償折衍混合紅外光學系統
6.7.4 數字化、網絡化設備中的微光學元器件
第七章 光電子成像系統總體性能評價和分析
7.1 引言
7.2 人眼的視覺特性
7.2.1 神奇的人眼視覺及其局限性
7.2.2 人眼視覺三要素
7.2.3 人眼視覺光譜靈敏度分布
7.2.4 人眼視覺對比靈敏度與景物亮度的關係
7.3 系統能量鏈評價方法
……
第八章 微光夜視技術
第九章 紅外熱成像技術
第十章 激光成像技術
第十一章 光電穩定與跟蹤技術
第十二章 遙感光電子成像技術
第十三章 光電成像系統建模住址評估技術
第十四章 光子計數成像技術
參考文獻
1.1 光電子成像技術的意義和作用
1.1.1 神奇的人眼視覺及其局限性
1.1.2 光電子成像系統的物理功能及技術特點
1.1.3 光電子成像系統構成、工作原理及工作模式
1.1.4 光電子成像器件和顯示器件一般原理
1.2 光電子成像技術基本科學問題探討
1.2.1 “成像”一詞的來源
1.2.2 現代光電子成像技術的數理含義
1.2.3 現代光電子成像技術基本科學問題詮釋
1.3 本書的編著思路和技術特點
第二章 輻射源、目標及大氣特性
2.1 引言
2.2 輻射源電磁波譜
2.3 輻射源特性及其度量
2.3.1 輻射源特性
2.3.2 輻射度量
2.4 輻射源分類
2.5 絕對黑體及其基本定律
2.5.1 絕對黑體與灰體
2.5.2 黑體輻射基本定律
2.6 常見的輻射源
2.7 激光器原理及其應用
2.7.1 激光器x_-f乍原理
2.7.2 激光器技術特點
2.7.3 激光器在光電子成像技術中的應用
2.8 輻射能在大氣中的傳播
2.8.1 輻射能在大氣中傳播的一般規律
2.8.2 水平能見度和消光指數
2.9 典型目標的輻射和反射特性
2.9.1 典型目標的輻射特性
2.9.2 典型目標的反射特性
2.9.3 水下光學吸收(透射)特性
第三章 固體光電子成像器件
3.1 引言
3.2 固體光電子成像器件分類及性能
3.2.1 固體光電子成像器件分類
3.2.2 固體光電子成像器件性能參數
3.3 紅外探測成像器件
3.3.1 概述
3.3.2 紅外成像器件原理結構
3.4 CCD、CMOS成像器件系列
3.4.1 概述
3.4.2 (2CI)典型結構和工作原理
3.4.3 (2M()S成像器件典型結構和工作原理
3.4.4 EMCD典型結構和工作原理
3.4.5 1CCD典型結構和工作原理
3.4.6 EBCD典型結構和工作原理
3.5 短波輻射固體成像器件
3.5.1 概述
3.5.2 固體紫外(日盲)探測成像器件
3.5.3 固體X線探測成像器件
3.5.4 固體7線探測成像器件
3.5.5 EB——MAMA多陽極陣列探測成像器件
第四章 真空光電子成像器件
4.1 引言
4.2 真空光電子成像器件技術發展動態
4.3 真空光電子成像功能部件物理基礎
4.3.1 半導體外光電效應和光陰極
4.3.2 光電倍增管和微通道板電子倍增原理
4.3.3 光纖光學成像元件
4.3.4 電致發光顯示器件——熒光屏
4.3.5 電子光學透鏡成像原理
4.4 真空光電子成像器件原理、功能和結構
4.4.1 真空光電子成像器件工作原理
4.4.2 真空光電子成像器件四大功能
4.4.3 真空光電子成像器件典型結構
4.5 真空光電子成像器件特性參數
4.5.1 真空光電子成像器件特性參數分類
4.5.2 真空光電子成像器件特性參數
4.6 雙近貼聚焦像像增強器(wII)極限性能估算
4.6.1 WII極限靈敏度估算
4.6.2 WII極限分辨率估算
4.6.3 WII極限信噪比估算
第五章 圖像顯示技術
5.1 引言
5.1.1 圖像顯示系統組成及功能
5.1.2 顯示器技術發展動態
5.2 圖像顯示器特性參數和性能評價
5.2.1 圖像顯示器特性參數
5.2.2 圖像顯示器性能評價
5.3 液晶顯示技術
5.3.1 液晶顯示器基本工作原理
5.3.2 微型液晶顯示技術
5.3.3 LCoS工作原理
5.3.4 LCOS的優點
5.4 液晶光閥投影顯示技術
5.4.1 液晶光閥
5.4.2 光尋址方式液晶光閥用途
5.4.3 大屏幕投影顯示應用系統
5.5 立體顯示技術
5.5.1 高現場感顯示與空間成像型顯示器
5.5.2 空間成像型顯示方式的分類與問題
5.6 數字式微反射鏡顯示(DMD)技術
5.6.1 數字式微反射鏡器件
5.6.2 DMD光開關原理
5.6.3 DMD數字化光處理器(DLP)
5.6.4 數字化光處理的技術特徵
5.6.5 數字化光處理系統
5.7 陰極射線管(CRT)顯示技術
5.7.1 CRT顯示原理
5.7.2 CRT的典型結構與工作原理
5.8 等離子體顯示(PDP)技術
5.8.1 彩色PDP結構及工作原理
5.8.2 PDP顯示器的應用和前景
5.9 有機發光薄膜二極管顯示(OLED)技術
5.9.1 OLED結構及工作原理
5.9.2 有機發光二極管(OLED)優點
5.9.3 OLED應用及發展動態
5.1 0大屏幕顯示技術
5.1 0.1 球幕多光譜顯示技術
5.1 0.2 LED大屏幕顯示技術
第六章 光學成像系統和光學傳遞函數
6.1 引言
6.2 幾何光學概述
6.2.1 幾何光學的有效性及其基本定律
6.2.2 光學系統成像的幾何光學理論
6.2.3 理想光學系統及其物像關係
6.2.4 平面鏡棱鏡系統的成像特點及其應用
6.3 幾何像差理論簡介
6.4 光學薄膜技術簡介
6.4.1 功能特點及應用背景
6.4.2 光學系統用的特種薄膜
6.5 幾種典型光學系統
6.5.1 微光夜視光學系統
6.5.2 紅外光學系統
6.6 光學傳遞函數OTF
6.6.1 概述
6.6.2 光學傳遞函數原理
6.6.3 光學傳遞函數的物理意義
6.6.4 光學傳遞函數的計算
6.7 光學成像技術的最新發展
6.7.1 二元光學元件工作原理和製作方法
6.7.2 熱像儀折衍射混合物鏡光學系統
6.7.3 環境溫度補償折衍混合紅外光學系統
6.7.4 數字化、網絡化設備中的微光學元器件
第七章 光電子成像系統總體性能評價和分析
7.1 引言
7.2 人眼的視覺特性
7.2.1 神奇的人眼視覺及其局限性
7.2.2 人眼視覺三要素
7.2.3 人眼視覺光譜靈敏度分布
7.2.4 人眼視覺對比靈敏度與景物亮度的關係
7.3 系統能量鏈評價方法
……
第八章 微光夜視技術
第九章 紅外熱成像技術
第十章 激光成像技術
第十一章 光電穩定與跟蹤技術
第十二章 遙感光電子成像技術
第十三章 光電成像系統建模住址評估技術
第十四章 光子計數成像技術
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