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商品簡介
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先進計算光刻技術是集成電製造裝備和工藝的核心技術。《先進計算光刻》主要介紹作者在20餘年從事光刻機研發中，建立的先進計算光刻技術，包括矢量計算光刻、快速-全芯片計算光刻、高穩定-高保真計算光刻、光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻等，能夠實現快速-高精度-全曝光視場-低誤差敏感度的高性能計算光刻。矢量計算光刻包括零誤差、全光路嚴格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技術。快速-全芯片計算光刻包括壓縮感知、貝葉斯壓縮感知、全芯片壓縮感知計算光刻技術。高穩定-高保真計算光刻包括低誤差敏感度的SMO技術、全視場多目標SMO技術、多目標標量和矢量光瞳優化技術。光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻包括含偏振像差、工件台振動誤差、雜散光誤差的光刻設備-掩模-工藝多參數協同優化技術。解決傳統計算光刻在零誤差假設、局域坐標系、理想遠心、單個視場點獲得的掩模-光源，無法最佳匹配實際光刻系統之所需，導致增加工藝迭代時間的問題。
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