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1.
先進計算光刻（簡體書）
作者：
李豔秋
出版社：
科學出版社
出版日：
2024/04/01
裝訂：
精裝
先進計算光刻技術是集成電製造裝備和工藝的核心技術。《先進計算光刻》主要介紹作者在20餘年從事光刻機研發中，建立的先進計算光刻技術，包括矢量計算光刻、快速-全芯片計算光刻、高穩定-高保真計算光刻、光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻等，能夠實現快速-高精度-全曝光視場-低誤差敏感度的高性能計算光刻。矢量計算光刻包括零誤差、全光路嚴格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技術。快速-全芯片計算光刻包括壓縮感知、貝葉斯壓縮感知、全芯片壓縮感知計算光刻技術。高穩定-高保真計算光刻包括低誤差敏感度的SMO技術、全視場多目標SMO技術、多目標標量和矢量光瞳優化技術。光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻包括含偏振像差、工件台振動誤差、雜散光誤差的光刻設備-掩模-工藝多參數協同優化技術。解決傳統計算光刻在零誤差假設、局域坐標系、理想遠心、單個視場點獲得的掩模-光源，無法最佳匹配實際光刻系統之所需，導致增加工藝迭代時間的問題。
定價：780 元，
優惠價：
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2.
等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用(第2版)（簡體書）
作者：
張海洋
出版社：
清華大學出版社(大陸)
出版日：
2023/01/01
裝訂：
平裝
本書共10章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨後是占據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。後是先進過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望，以及虛擬製造在集成電路發展中的應用。 本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。
定價：894 元，
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3.
折射衍射微光學結構的單步光刻與濕法蝕刻原理與應用(精)（簡體書）
作者：
張新宇
出版社：
國防工業出版社
出版日：
2021/10/14
裝訂：
精裝
本書主要針對可見光、紅外、太赫茲等譜域的折射與衍射微光學結構，開展新的設計、工藝製作和測試評估方法研究。重點論述了以折射和衍射微光學積分變換為基礎，有效出射可見光、紅外及太赫茲多譜圖像與波前的基礎理論和基本方法，建立了基於衍射相位精細構建在設計、仿真、工藝、測試與評估等方面的數據和方法體系。
定價：1014 元，
優惠價：
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4.
計算光刻與版圖優化（簡體書）
作者：
韋亞一
出版社：
電子工業出版社
出版日：
2021/01/01
裝訂：
平裝
光刻是積體電路製造的核心技術，光刻工藝成本已經超出積體電路製造總成本的三分之一。在積體電路製造的諸多工藝單元中，只有光刻工藝可以在矽片上產生圖形，從而完成器件和電路三維結構的製造。計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像品質和工藝視窗的有效手段。基於光刻成像模型，計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優化，對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正，還可以從工藝難度的角度對設計版圖提出修改意見，最終保證光刻工
定價：474 元，
優惠價：
87
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5.
等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用（簡體書）
作者：
張海洋
出版社：
清華大學出版社(大陸)
出版日：
2018/02/01
裝訂：
精裝
本書共9章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨後是佔據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。最後是先進過程控制技術在等離子體
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