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出版日期

2023~2024 (1)
2021~2022 (3)
2017年以前 (3)
裝訂方式

平裝 (6)
精裝 (1)
作者

李豔秋 (4)
侯文詠、李豔秋 (1)
孫光靈、李豔秋 (1)
李豔秋、馬旭、孫義鈺、袁淼 (1)
出版社/品牌

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7筆商品,1/1頁
微積分:經管類‧上冊(第三版)(簡體書)
滿額折
作者:李豔秋  出版社:科學出版社  出版日:2021/08/03 裝訂:平裝
本書由一線數學教師結合多年的教學實踐編寫而成.全書把微積分和相關經濟學知識有機結合,內容的深度、廣度與經濟類、管理類各專業微積分教學要求相符.全書分上、下兩冊,共12章.本書是上冊,內容包括函數、極限、連續,導數與微分,微分中值定理及導數的應用,不定積分,定積分,定積分的應用.各節均配有一定量的習題,章末附有自測題,書後附有習題答案.
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定價:270 元, 優惠價:87 235
去拍雲南(簡體書)
滿額折
作者:李豔秋  出版社:浙江攝影出版社  出版日:2013/06/01 裝訂:平裝
這是一本由一群非專業攝影的雲南"老表"以他們對攝影、對雲南的熱愛而催生的書。這群人來自各行各業,不同的職業讓他們鏡頭後的圖片也體現出不同的角度和思想。或許有的圖片突破常規,甚至顯得毫無章法,但是這就是這群雲南"老表"想對外界表達的內心——雲南很美,雲南人的淳樸,簡單就是這裡最大的特色。在這《去拍雲南》的編撰過程中,"老表"們都是開心地和我說著拍攝中發生的種種趣事,但若你真的身住其中,可能會覺得那並
海外經銷商無庫存,到貨日平均30天至45天
定價:270 元, 優惠價:87 235
作者:李豔秋  出版社:皇冠  出版日:1997/07/01 裝訂:平裝
你如何看待新聞工作?是炫麗有趣、擁有高知名度?或是民主的第四權、道德的無冕王? 李豔秋,一個資深的新聞工作者,帶你穿梭電視新聞製播的前後場,為您精闢分析所謂『正常』的新聞狀況背後,光怪陸離的媒體生態;告訴您政治力如何介入並進而控制三台新聞?新聞的內容、觀點和角度應該包含些什麼?更讓您深思在講求『快』的超倍速時代裡,『新聞』到底是什麼?
絕版無法訂購
公共關係學基礎(簡體書)
滿額折
作者:李豔秋  出版社:西北工業大學出版社  出版日:2021/08/01 裝訂:平裝
本書按照公共關係學內容的發展邏輯,將全書內容概括為:公共關係概述、淵源、興起與發展,公共關係的主客體等 10部分。本書在體系上使邏輯結構清晰簡明,語言表達通俗易懂;在內容上體現科學性和時代性的統一;在使用上便於課堂教學的實際需要。編寫本書的目的是為適應社會需要,培養更多的應用型、複合型、掌握一定專業技能的高級人才從而為實現高等職業教育的目標服務。
海外經銷商無庫存,到貨日平均30天至45天
定價:228 元, 優惠價:87 198
作者:侯文詠; 李豔秋  出版社:平安出版社  出版日:1998/02/01 裝訂:平裝
絕版無法訂購
面向分類的集成學習算法:基礎理論與分析(簡體書)
滿額折
作者:孫光靈; 李豔秋  出版社:中國鐵道出版社  出版日:2022/12/31 裝訂:平裝
孫光靈李豔秋著內容簡介作為一類先進的機器學習方法,多分類器集成技術將多個單體學習器按照一定的規則集成起來,充分利用個體學習器之間的互補性,以取得更好的泛化能力和健壯性。全書分為三部分,第一部分主要介紹集成學習的相關背景,即關於分類器的相關基礎理論。第二部分主要介紹集成學習方法的核心知識,諸如多分類器集成的框架、集成規則和性能評估等理論;Boosting、Bagging、Stacking和隨機森林(RandomForests)等經典算法;除此之外,還介紹典型的動態集成方法以及集成聚類算法相關基本概念。第三部分介紹集成學習方法的擴展議題,給出集成學習在半監督學習、主動學習和類別不平衡學習等領域的應用。本書的主要受眾是具有一定機器學習和模式識別基礎知識的讀者,也供機器學習和模式識別愛好者閱讀參考。
海外經銷商無庫存,到貨日平均30天至45天
定價:198 元, 優惠價:87 172
先進計算光刻(簡體書)
滿額折
作者:李豔秋; 馬旭; 孫義鈺; 袁淼  出版社:科學出版社  出版日:2024/04/19 裝訂:精裝
先進計算光刻技術是集成電製造裝備和工藝的核心技術。《先進計算光刻》主要介紹作者在20餘年從事光刻機研發中,建立的先進計算光刻技術,包括矢量計算光刻、快速-全芯片計算光刻、高穩定-高保真計算光刻、光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻等,能夠實現快速-高精度-全曝光視場-低誤差敏感度的高性能計算光刻。矢量計算光刻包括零誤差、全光路嚴格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技術。快速-全芯片計算光刻包括壓縮感知、貝葉斯壓縮感知、全芯片壓縮感知計算光刻技術。高穩定-高保真計算光刻包括低誤差敏感度的SMO技術、全視場多目標SMO技術、多目標標量和矢量光瞳優化技術。光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻包括含偏振像差、工件台振動誤差、雜散光誤差的光刻設備-掩模-工藝多參數協同優化技術。解決傳統計算光刻在零誤差假設、局域坐標系、理想遠心、單個視場點獲得的掩模-光源,無法最佳匹配實際光刻系統之所需,導致增加工藝迭代時間的問題。
海外經銷商無庫存,到貨日平均30天至45天
定價:780 元, 優惠價:87 679

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