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矽基集成晶元製造工藝原理(精)(簡體書)
作者:
李炳宗
;
茹國平
;
屈新萍
;
蔣玉龍
出版社:
復旦大學出版社
出版日:
2021/11/19
裝訂:
精裝
內容簡介 自1958年集成電路誕生以來,矽基集成芯片製造技術迅速發展,現今已經進入亞5nm時代。矽基芯片製造技術可以概括為一系列微細加工矽片技術,這些愈益精密的微細加工技術持續創新與升級,源于20世紀初以來現代物理等物質科學知識的長期積累。充分瞭解各種微細加工技術背後的科學原理,是理解和掌握集成芯片製造工藝技術的基礎。 全書共20章。前8章概述矽基集成芯片從小規模到極大規模集成的創新演進路徑,分析集成芯片製造技術快速升級換代的獨特規律,研判器件微小型化技術與摩爾規律的內在聯繫,並對半導體物理和晶體管原理基礎理論知識作概要討論。後12章分別闡述熱氧化、矽單晶與外延生長及SOI晶片、精密圖形光刻、擴散摻雜、離子注入與快速退火、PVD與CVD及ALD薄膜澱積、高密度等離子
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