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2022~2023 （1）

2020~2021 （1）

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作者

張海洋（2）

伍強（1）

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清華大學出版社（大陸）（3）

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衍射極限附近的光刻工藝（簡體書）

作者：伍強 出版社：清華大學出版社(大陸) 出版日：2020/02/01 裝訂：平裝

為了應對我國在集成電路領域,尤其是光刻技術方面嚴重落後於發達國家的局面,破解光刻製造設備、材料和光學鄰近效應修正軟件幾乎完全依賴進口的困境,作為從事光刻工藝研發近 20 年的資深研發人員,作者肩負著協助光刻設備、材料和軟件等產業鏈共同研發和發展的責任,將近 20 年的學習成果和研發經驗彙編成書,建立聯繫我國集成電路芯片的研發和製造,設備、材料和軟件的研發,以及大專院校、科研院所的科學技術研究、人才

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定價：1008 元，優惠價：87 877

等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用（簡體書）

作者：張海洋 出版社：清華大學出版社(大陸) 出版日：2018/02/01 裝訂：精裝

本書共9章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨後是佔據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。最後是先進過程控制技術在等離子體

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等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用(第2版)（簡體書）

作者：張海洋 出版社：清華大學出版社(大陸) 出版日：2023/01/01 裝訂：平裝

本書共10章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨後是占據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。後是先進過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望，以及虛擬製造在集成電路發展中的應用。本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。

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定價：894 元，優惠價：87 778

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