滿額折
衍射極限附近的光刻工藝（簡體書）
商品資訊
系列名：高端集成電路製造工藝叢書
ISBN13：9787302537427
出版社：清華大學出版社(大陸)
作者：伍強
出版日：2020/02/01
裝訂／頁數：平裝／653頁
規格：24cm*17cm (高/寬)
版次：一版
商品簡介
相關商品
商品簡介
為了應對我國在集成電路領域,尤其是光刻技術方面嚴重落後於發達國家的局面,破解光刻製造設備、材料和光學鄰近效應修正軟件幾乎完全依賴進口的困境,作為從事光刻工藝研發近 20 年的資深研發人員,作
者肩負著協助光刻設備、材料和軟件等產業鏈共同研發和發展的責任,將近 20 年的學習成果和研發經驗彙編
成書,建立聯繫我國集成電路芯片的研發和製造,設備、材料和軟件的研發,以及大專院校、科研院所的科學
技術研究、人才培養的一座橋樑。
本書以光刻工藝為主線,有機地將光刻設備、光刻材料、光刻成像的理論計算、光刻工藝中各種建模思想
和推導、芯片製造的技術發展要求以及對光刻工藝各項參數的要求緊密地聯繫在一起,給讀者一個整體的圖
景。《衍射極限附近的光刻工藝》可供光刻技術領域科研院所的研究人員、大專院校的教師和學生、集成電路工廠的工程技術人員等
參考。
者肩負著協助光刻設備、材料和軟件等產業鏈共同研發和發展的責任,將近 20 年的學習成果和研發經驗彙編
成書,建立聯繫我國集成電路芯片的研發和製造,設備、材料和軟件的研發,以及大專院校、科研院所的科學
技術研究、人才培養的一座橋樑。
本書以光刻工藝為主線,有機地將光刻設備、光刻材料、光刻成像的理論計算、光刻工藝中各種建模思想
和推導、芯片製造的技術發展要求以及對光刻工藝各項參數的要求緊密地聯繫在一起,給讀者一個整體的圖
景。《衍射極限附近的光刻工藝》可供光刻技術領域科研院所的研究人員、大專院校的教師和學生、集成電路工廠的工程技術人員等
參考。
今日66折
您曾經瀏覽過的商品
購物須知
大陸出版品因裝訂品質及貨運條件與台灣出版品落差甚大，除封面破損、內頁脫落等較嚴重的狀態，其餘商品將正常出貨。
特別提醒：部分書籍附贈之內容(如音頻mp3或影片dvd等)已無實體光碟提供，需以QR CODE 連結至當地網站註冊“並通過驗證程序”，方可下載使用。
無現貨庫存之簡體書，將向海外調貨：
海外有庫存之書籍，等候約45個工作天;
海外無庫存之書籍，平均作業時間約60個工作天，然不保證確定可調到貨，尚請見諒。
為了保護您的權益，「三民網路書店」提供會員七日商品鑑賞期(收到商品為起始日)。
若要辦理退貨，請在商品鑑賞期內寄回，且商品必須是全新狀態與完整包裝(商品、附件、發票、隨貨贈品等)否則恕不接受退貨。