微電子技術概論（簡體書）

本書為微電子技術專業的入門教材。主要內容包括微電子科學技術的發展歷程及微電子學的特點，半導體物理與器件基礎，集成電路基礎，集成電路制造工藝，集成電路的設計，集成電路設計的CAD系統以及系統芯片設計。
本書內容安排合理，堅持“實用為主，夠用為度”的原則，結構清晰，語言通俗易懂。通過本書的學習，既對微電子學有一個全面的、概要的了解，學習后又不覺得膚淺，并把微電子學領域的一些最新觀點、最新成果涵蓋其中。
本書可作為高職高專電子信息類、電氣類各專業的教材，也可供微電子技術專業人員參考。

前言
第1章　緒論
1.1　微電子科學技術的發展歷程
1.1.1　晶體管的發明
1.1.2　集成電路的發展歷史及規律
1.1.3　我國微電子技術的發展概況
1.2　微電子學的特點
習題一
第2章　半導體物理與器件基礎
　2.1　半導體的特性
2.1.1　半導體材料
2.1.2　半導體的晶格結構
2.1.3　半導體能帶結構
2.1.4　半導體的導電性
　2.2　半導體中的載流子
2.2.1　本征半導體
2.2.2　雜質半導體
2.2.3　半導體中載流子的統計分布
　2.3　PN結
2.3.1　平衡狀態下的PN結
2.3.2 PN結的單向導電性
2.3.3 PN結的伏一安特性
2.3.4 PN結的擊穿
2.3.5 PN結電容
2.3.6　異質PN結
　2.4　雙極型晶體管
2.4.1　雙極型晶體管的基本結構
2.4.2　雙極型晶體管的直流放大原理
2.4.3　雙極型晶體管的直流特性
2.4.4　雙極型晶體管的反向電流和擊穿電壓
2.4.5　雙極型晶體管的頻率特性
　2.5 MOS場效應晶體管
2.5.1 MOS場效應晶體管的基本結構
2.5.2 MOS場效應晶體管的工作原理
2.5.3 MOS場效應晶體管的直流特性曲線
習題二
第3章　集成電路基礎
3.1　概述
3.1.1　集成電路的分類
3.1.2　集成電路的發展史
3.1.3　集成電路制造簡介
　3.2　雙極型晶體管集成電路基礎
3.2.1　平面雙極型晶體管的結構
3.2.2　雙極型晶體管模擬集成電路
3.2.3　雙極型晶體管數字集成電路
　3.3　場效應晶體管集成電路基礎
3.3.1　集成電路中的場效應晶體管
3.3.2 MOS集成電路
3.3.3 CMOS集成電路
3.3.4 BiCMOS集成電路
　習題三
第4章　集成電路制造工藝
　4.1　工藝技術
　4.2　基本工藝步驟
　4.3　CMOS集成電路的工藝流程
　4.4　氧化
4.4.1　SiO2的性質及其作用
4.4.2　熱氧化形成SiO2的機理
4.4.3　SiO2的制備方法
4.4.4　高溫爐設備
4.4.5　熱氧化工藝
　4.5　光刻
4.5.1　光刻工藝簡介
4.5.2　幾種常見的光刻方法
4.5.3　超細線條光刻技術
　4.6　刻蝕
　4.7　擴散
4.7.1　擴散的基本原理
4.7.2　擴散工藝
　4.8　離子注入
4.8.1　離子注入簡介
4.8.2　離子注入的原理
　……
第5章　集成電路設計
第6章　集成電路設計的EDA系統　
第7章　系統芯片設計
附錄
參考文獻