電子材料（簡體書）

《國家級精品課程教材：電子材料》較為全面地介紹了電子信息技術和產業中涉及的電子材料的製備方法、結構特徵，電、磁、光等方面的性質，電子元件設計、開發應用所需的材料基礎知識。對電子材料的基本理論進行了敘述，介紹了電子材料的性能、應用和發展趨勢。《國家級精品課程教材：電子材料》共13章，包括電子材料概述、材料的分析與表徵、薄膜、厚膜，以及陶瓷等基本工藝、超導、導電、半導體、電阻材料、介質材料、磁性材料、光電材料、敏感材料與封裝材料等內容。《國家級精品課程教材：電子材料》可作為微電子與固體電子、材料科學與工程、半導體、光電子等專業的基礎課教材，也可供冶金、物理、化學、化工等相關學科的大學生、研究生、教師及工程技術人員參考使用。

李言榮，1962年7月生於四川省射洪縣，1992年博士畢業于中科院長春應化所。現為電子科技大學教授、博士生導師，電子薄膜與集成器件國家重點實驗室主任，曾入選長江學者特聘教授和國家傑出青年基金獲得者，973項目技術首席專家。長期從事電子材料與元器件的研究，主要包括超導薄膜、鐵電薄膜、熱釋電薄膜、半導體集成薄膜及器件應用等，發表重要刊物論文200餘篇，獲國家技術發明二等獎2項，以及省部級獎8項。2011年當選為中國工程院院士。林媛，1999年在中國科學技術大學獲得博士學位，其後分別在中科院北京物理所、美國休斯頓大學、美國Los Alamos國家實驗室從事博士後研究，2006年起任美國Intel公司封裝測試技術研發中心高級工程師。2008年入選教育部第九批長江學者特聘教授，回國後到電子科技大學工作。研究領域是電子材料及薄膜微結構工程，在使用新工藝、新方法對薄膜微結構進行調製，以及在鐵電、高溫超導、巨磁阻和應變矽的薄膜生長等方面取得了．系列創新性成果，在Nature Materials、Arigew. Chem. Int. Ed.、Advanced Materials、Appl.Phys.Lett.等國際刊物發表學術論文60餘篇，SCI他引超過700次；獲中國發明專利3項，美國專利2項。陶伯萬，2003年獲得工學博士學位，2001年、2008年先後在德國Karlsruhe研究中心（FZK）和美國Los Alamos國家實驗室做訪問研究。自1997年以來，一直從事多元氧化物超導薄膜材料和器件應用研究，解決了3英寸雙面YBCO薄膜的均勻性和一致性問題。發表學術論文40餘篇；授權中國發明專利4項；獲得國家技術發明二等獎2次，教育部技木發明一等獎、國防科技進步一等獎、國防科技進步三等獎、四川省科技進步三等獎各1次。2008年授為新世紀優秀人才，2009年獲得中國青年科技獎。

《電子材料》以《電子材料導論》的主要內容為框架，刪除了一些較老的和比較專門的內容，將材料常用表征方法和電子材料制作中的常用工藝等從原書各章中分離出來專門敘述；在更新內容的基礎上，增加了光電材料、熱電材料、吸波材料和封裝材料等章節。這樣，基本上囊括了電子信息材料中的主要材料。由于電子材料涉及面非常廣，需要的知識也很寬，為了便于自學和講授，這次修改的原則是“實用、新穎，廣而不深，圖文并茂”。本書由李言榮院士主編。

第1章 電子材料概論1.1 電子材料的分類與特點1.1.1 電子材料在國民經濟中的地位1.1.2 電子材料的分類1.1.3 電子材料的環境要求1.1.4 電子材料與元器件1.2 無機電子材料1.2.1 晶體的特徵1.2.2 同構晶體和多晶型轉變1.2.3 固溶體1.2.4 金屬間化合物1.3 實際晶體、非晶體和准晶1.3.1 實際晶體1.3.2 非晶態材料1.3.3 准晶體簡介1.4 電子材料的表面與界面1.4.1 表面的定義和種類1.4.2 清潔表面的原子排布1.4.3 實際表面的特徵1.4.4 晶粒間界1.4.5 相界和分界面1.5 電子材料的應用與發展1.5.1 現代社會對電子材料的要求1.5.2 電子材料的選用原則1.5.3 納米材料1.5.4 複合材料與梯度功能材料1.5.5 超常材料1.5.6 電子材料的發展動態複習思考題參考文獻第2章 電子材料的分析和表徵2.1 電子材料化學成分分析方法2.2 電子材料結構分析方法-X射線衍射分析法2.3 電子材料的顯微分析法2.4 電子材料表面界面分析技術2.5 掃描探針技術2.6 光譜分析技術2.7 熱分析技術複習思考題參考文獻第3章 薄膜工藝3.1 真空技術概述3.1.1 真空3.1.2 真空的獲得3.1.3 真空的測量3.2 真空蒸發鍍膜工藝3.2.1 真空蒸發原理3.2.2 熱蒸發3.2.3 脈衝激光蒸發3.2.4 分子束外延3.2.5 其他蒸發鍍膜方法簡介3.3 濺射鍍膜工藝3.3.1 直流二極濺射及其原理3.3.2 射頻濺射3.3.3 磁控濺射3.3.4 反應濺射3.3.5 離子束沉積3.3.6 濺射沉積技術的特點3.4 化學氣相沉積工藝3.4.1 化學氣相沉積過程3.4.2 熱CVD3.4.3 等離子體CVD3.4.4 光CVD3.4.5 有機金屬CVD（MOCVD）3.4.6 表面氧化工藝複習思考題參考文獻第4章 厚膜工藝第5章 陶瓷工藝第6章 導電材料和電阻材料第7章 超導材料第8章 半導體材料第9章 電介質材料第10章 磁性材料第11章 光電材料與熱電材料第12章 敏感材料與吸波材料第13章 電子封裝材料