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1.
光刻技術(原著第二版)（簡體書）
作者：
林本堅
出版社：
化學工業出版社
出版日：
2024/08/01
裝訂：
精裝
本書詳細介紹了半導體芯片製造中的核心技術——光刻技術。主要內容包括驅動光學光刻的基本方程和參數的相關知識、曝光系統和成像基礎理論、光刻系統組件、工藝和優化技術等；深入分析了光刻技術的發展前景，詳述了浸沒式光刻與極紫外（EUV）光刻。本書（第二版）特別融合了作者在研究、教學以及世界級大批量製造方面的獨特經驗，增加了關於接近式曝光方面的全新內容，同時更新並擴展了曝光系統、成像、曝光-離焦（E-D）法、硬件組件、工藝和優化以及EUV光刻和浸沒式光刻等方面的資料。本書可供半導體光刻領域的工程師、管理者以及研究人員閱讀，還可作為高校微電子、光學工程、集成電路等相關學科的參考教材。
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2.
半導體先進光刻理論與技術（簡體書）
作者：
(德)安德里亞斯‧愛德曼
出版社：
化學工業出版社
出版日：
2024/06/04
裝訂：
精裝
本書是半導體先進光刻領域的綜合性著作，介紹了當前主流的光學光刻、先進的極紫外光刻以及下一代光刻技術。主要內容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設備、關鍵部件、分辨率增強、建模與仿真、典型物理與化學效應等，包括光刻技術的前沿進展，還總結了極紫外光刻的特點、存在問題與發展方向。書中融入了作者對光刻技術的寶貴理解與認識，是作者多年科研與教學經驗的結晶。 本書適合從事光刻技術研究與應用的科研與工程技術人員閱讀，可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生的參考書，也可作為微電子、光學工程、微納加工、材料工程等專業本科生的參考教材，還可為芯片製造領域的科技工作者與管理人員提供參考。
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3.
半導體乾法刻蝕技術(原書第2版)（簡體書）
作者：
(日)野尻一男
出版社：
機械工業出版社
出版日：
2024/01/05
裝訂：
平裝
本書針對幹法刻蝕技術，在內容上涵蓋了從基礎知識到最新技術，使初學者能夠瞭解幹法刻蝕的機理，而無需複雜的數值公式或方程。本書不僅介紹了半導體器件中所涉及材料的刻蝕工藝，而且對每種材料的關鍵刻蝕參數、對應的等離子體源和刻蝕氣體化學物質進行了詳細解釋。本書討論了具體器件製造流程中涉及的幹法刻蝕技術，介紹了半導體廠商實際使用的刻蝕設備的類型和等離子體產生機理，例如電容耦合型等離子體、磁控反應離子刻蝕、電子回旋共振等離子體和電感耦合型等離子體，並介紹了原子層沉積等新型刻蝕技術。
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4.
半導體乾法刻蝕技術：原子層工藝（簡體書）
作者：
(美)索斯藤‧萊爾
出版社：
機械工業出版社
出版日：
2023/09/25
裝訂：
平裝
本書主要內容有：熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等，探討了尚未從研究轉向半導體製造的新興刻蝕技術，涵蓋了定向和各向同性ALE的最新研究和進展。本書以特定的刻蝕應用作為所討論機制的示例，例如柵極刻蝕、接觸孔刻蝕或3D NAND通道孔刻蝕，有助於對所有幹法刻蝕技術的原子層次理解。
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5.
半導體濕法刻蝕加工技術（簡體書）
作者：
陳雲
;
陳新
出版社：
科學出版社
出版日：
2023/09/01
裝訂：
平裝
《半導體濕法刻蝕加工技術》全面闡述了半導體刻蝕加工及金屬輔助化學刻蝕加工原理與工藝，詳細講述了矽折點納米線、超高深徑比納米線、單納米精度矽孔陣列三類典型微/納米結構的刻蝕加工工藝，並對第三代半導體碳化矽的電場和金屬輔助化學刻蝕複合加工、第三代半導體碳化矽高深寬比微槽的紫外光場和濕法刻蝕複合加工工藝進行了詳細論述。
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6.
等離子體刻蝕工藝及設備（簡體書）
作者：
趙晉榮
出版社：
電子工業出版社
出版日：
2023/02/01
裝訂：
精裝
本書以集成電路領域中的等離子體刻蝕為切入點，介紹了等離子體基礎知識、基於等離子體的刻蝕技術、等離子體刻蝕設備及其在集成電路中的應用。全書共8章，內容包括集成電路簡介、等離子體基本原理、集成電路製造中的等離子體刻蝕工藝、集成電路封裝中的等離子體刻蝕工藝、等離子體刻蝕機、等離子體測試和表徵、等離子體仿真、顆粒控制和量產。本書對從事等離子體刻蝕基礎研究和集成電路工廠產品刻蝕工藝調試的人員均有一定的參考價值。
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7.
光學光刻和極紫外光刻（簡體書）
作者：
(德)安迪‧愛德曼
出版社：
上海科學技術出版社
出版日：
2023/01/01
裝訂：
平裝
《光學光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術專著，內容涉及該領域的各個重要方面。在介紹光刻技術應用上，涵蓋了全面又豐富的內容；在論述光刻技術的物理機制和數學模型時，採用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統地闡述了光學光刻技術的基本內容後，還專門開闢章節，介紹了最先進的極紫外光刻技術的特點和難點，揭示了極紫外光刻的技術奧秘。本書具有全面、完整、翔實和新穎的特點，它凝聚了作者三十多年光刻領域科研和教學的精華。
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8.
變革性光科學與技術叢書-激光熱敏光刻：原理與方法（簡體書）
作者：
魏勁松
出版社：
清華大學出版社(大陸)
出版日：
2022/09/01
裝訂：
精裝
本書首先對目前各種光刻技術的原理、方法和特點進行描述與分析比較，由此引出本書的主題――激光熱敏光刻； 然後詳細闡述激光熱敏光刻的物理過程、儀器系統、光刻策略、用於**光斑尺寸的納米光刻、跨尺度光刻、寬波段光刻、分辨率極限光刻、灰度圖形光刻，以及圖形轉移的方法和相應的實驗結果及應用事例。希望本書闡述的內容能從另一個角度分析和理解光刻，從而給目前的光刻技術帶來變革性影響，以滿足未來個性化和智能化的微電子芯片與微納結構光電子器件的需求。
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9.
極紫外光刻（簡體書）
作者：
(美)哈利‧傑‧萊文森
出版社：
上海科學技術出版社
出版日：
2022/09/01
裝訂：
平裝
《極紫外光刻》是一本論述極紫外光刻技術的最新專著。本書全面而又精煉地介紹了極紫外光刻技術的各個方面及其發展歷程，內容不僅涵蓋極紫外光源、極紫外光刻曝光系統、極紫外掩模版、極紫外光刻膠、極紫外計算光刻等方面，而且還介紹了極紫外光刻生態系統的其他方面，如極紫外光刻工藝特點和工藝控制、極紫外光刻量測的特殊要求，以及對技術發展路徑有著重要影響的極紫外光刻的成本分析等內容。最後本書還討論了滿足未來的芯片工藝節點要求的極紫外光刻技術發展方向。
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10.
超大型集成電路先進光刻理論與應用（簡體書）
作者：
韋亞一
出版社：
科學出版社
出版日：
2021/06/25
裝訂：
精裝
光刻技術是所有微納器件製造的核心技術。在積體電路製造中，正是由於光刻技術的不斷提高才使得摩爾定律得以繼續。本書覆蓋現代光刻技術的重要方面，包括設備、材料、模擬（計算光刻）和工藝。在設備部分，對業界使用的主流設備進行剖析，介紹其原理結構、使用方法、和工藝參數的設置。在材料部分，介紹了包括光刻膠、抗反射塗層、抗水塗層、和使用旋圖工藝的硬掩膜等材料的分子結構、使用方法，以及必須達到的性能參數。本書按照模
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11.
光刻機像質檢測技術(下冊)（簡體書）
作者：
王向朝
出版社：
科學出版社
出版日：
2021/04/20
裝訂：
精裝
本書介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術，介紹了本團隊提出的系列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質參數、波像差偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。
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12.
光刻機像質檢測技術(上冊)（簡體書）
作者：
王向朝
出版社：
科學出版社
出版日：
2021/04/09
裝訂：
精裝
本書介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術，介紹了本團隊提出的系列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質參數、波像差偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、演算法、模擬與實驗驗證等內容。以光刻機原位與線上像質檢測技術為主，也介紹了投影物鏡的離線像質檢測技術，涵蓋了深紫外幹式、浸液光刻機以及極紫外
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定價：1488 元，
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13.
衍射極限附近的光刻工藝（簡體書）
作者：
伍強
出版社：
清華大學出版社(大陸)
出版日：
2020/02/01
裝訂：
平裝
為了應對我國在集成電路領域,尤其是光刻技術方面嚴重落後於發達國家的局面,破解光刻製造設備、材料和光學鄰近效應修正軟件幾乎完全依賴進口的困境,作為從事光刻工藝研發近 20 年的資深研發人員,作者肩負著協助光刻設備、材料和軟件等產業鏈共同研發和發展的責任,將近 20 年的學習成果和研發經驗彙編成書,建立聯繫我國集成電路芯片的研發和製造,設備、材料和軟件的研發,以及大專院校、科研院所的科學技術研究、人才
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14.
激光等離子體極紫外光刻光源（簡體書）
作者：
竇銀萍
出版社：
國防工業出版社
出版日：
2019/01/01
裝訂：
平裝
本書首先介紹了用於光刻的激光等離子體極紫外光源的靠前外發展現狀，並系統闡述激光等離子體光源的相關理論。其次，介紹了用於6.7nm光源探測的平像場光柵光譜儀的設計、搭建及標定。重點介紹了激光參數及靶條件對光源光譜輸出特性的影響，包括釓（Gd）靶激光等離子體的極紫外光譜及離帶熱輻射特性，預等離子體條件下Gd金屬靶等離子體的極紫外光譜特性，收集方向對極紫外光譜特性影響及Gd2O3納米粒子摻雜玻璃靶等離子
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15.
光學投影曝光微納加工技術（簡體書）
作者：
姚漢民
出版社：
北京工業大學出版社
出版日：
2006/12/01
裝訂：
平裝
本書系統介紹主流光刻技術——光學投影光刻的工作原理、系統組成、應用和發展前景，詳細介紹投影光刻物鏡、掩模硅片對準、激光定位工件臺、分辨力增強技術以及整機集成。 全書共分七章，第一章為光學投影光刻基礎，介紹光學投影光刻的發展、分類，光學投影光刻的關鍵單元技術及分系統，光學投影光刻在微納加工技術中的應用；第二章為投影光刻的光學系統，包括投影物鏡、照明系統、調平調焦分系統；第三章介紹掩模硅片對
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