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本書介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術，介紹了本團隊提出的系列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質參數、波像差偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、演算法、模擬與實驗驗證等內容。以光刻機原位與線上像質檢測技術為主，也介紹了投影物鏡的離線像質檢測技術，涵蓋了深紫外幹式、浸液光刻機以及極紫外光刻機像質檢測技術。
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