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《集成電路與等離子體裝備》主要介紹了集成電路中與等離子體設備相關的內容，具體包括集成電路簡史、分類和發展方向以及面臨的挑戰，氣體放電的基本原理和典型應用、等離子體刻蝕工藝與設備、等離子體表面處理技術與設備、物理氣相沉積設備與工藝、等離子體增強化學氣相沉積工藝與設備、高密度等離子體化學氣相沉積工藝與設備、爐管設備與工藝等。
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